就
是
對
待
工
作
的
態(tài)
度
，
個產(chǎn)品，
做到極致認真
致
每一組數(shù)據(jù)
-
智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
-
潔凈烘箱，百級無塵烘箱
-
氮氣烘箱，精密充氮烘箱
-
LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮氣烘箱
-
熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱
-
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )
-
智能型無塵無氧烘箱（PI烤箱）
-
真空無氧固化爐，高溫?zé)o氧烘箱
-
精密烤膠臺，高精度烘膠機
-
超低溫試驗箱，零下-120度高低溫箱
產(chǎn) 品 中 心
products
HMDS烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) 六甲基二硅氮烷涂膠機用途
使用HMDS（六甲基二硅氮烷）對晶圓表面進行快速、均勻、經(jīng)濟高效的涂布，以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反轉(zhuǎn)，形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負圖像。
HMDS烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) 六甲基二硅氮烷涂膠機應(yīng)用行業(yè)
MEMS系統(tǒng)
CVD薄膜；
光刻
用于光刻膠附著力的 HMDS
作為聚合物和基材之間的粘合層
作為印章和聚合物材料之間的非常薄和保形的離型層；
噴墨
防止墨水積聚在噴嘴面板上，確保墨水流動不受限制；
生物MEMS
親水性和生物相容性CVD薄膜可用于改善潤濕性，或防止蛋白質(zhì)吸收，或減少器件性能的“漂移”
微陣列芯片的硅烷/底物粘附：DNA、基因、蛋白質(zhì)、抗體、組織；
光學(xué)和 AR/VR 應(yīng)用
修改光學(xué)特性
創(chuàng)建納米壓印層或鈍化層；
圖像反轉(zhuǎn)
金屬剝離工藝，用于WLP、RDL和掩模制造操作中的無蝕刻工藝；
HMDS烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) 六甲基二硅氮烷涂膠機技術(shù)性能
材質(zhì)：內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級不銹鋼
工藝溫度：100-150℃
溫度分辨率：0.1℃
溫度波動度：≤±0.5
真空度：≤133pa（1torr）
操作界面：人機界面，一鍵作業(yè)
層數(shù):2層
HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量
圖像處理：圖像反轉(zhuǎn)
真空泵: 進口無油泵
保護裝置：緊急停止，HMDS藥液泄漏報&警提示，HMDS低液位報&警，超溫保護，漏電保護，過熱保護等
MUNE
>網(wǎng)站首頁 >公司簡介 >產(chǎn)品中心 >新聞動態(tài)
>幫助文檔 >在線留言 >聯(lián)系我們
CONTACT US
tel：18016234441
EMALL：junsish@163.com
